由氣氛分析系統、過程控制系統和流量控制模塊組成的保護氣氛退火控制系統,能提供先進智能化的毫伏值或PF值控制,可為客戶提供退火工藝的全自動控制系統解決方案。特別適用...
由氣氛分析系統、過程控制系統和流量控制模塊組成的保護氣氛退火控制系統,能提供先進智能化的毫伏值或PF值控制,可為客戶提供退火工藝的全自動控制系統解決方案。特別適用于井式爐、罩式爐、STC爐等爐型。
氣氛分析模塊
l 專為退火爐設計的SPD低溫直插式氧探頭,采用特殊的氧化鋯陶瓷做敏感元件,在500℃以上即可顯示爐內氧毫伏值,可幾乎適用于所有的退火氣氛
l 紅外分析模塊適用于吸熱式或放熱式氣氛的CO和CO2測量,并提供PF值的計算模塊
l 可選配一體式低溫氧探頭,用于排空階段爐內氧含量的測量,節約N2使用量的同時縮短工藝時間,提高設備利用率
流量控制模塊
l N2智能流量控制器
l RX氣智能流量控制器
l CH4或C3H8智能流量控制器
過程控制模塊
l 基于MCGS觸摸屏開發的集監視、控制和記錄為一體的退火通用控制器,能夠程序化地實現整個退火工藝的溫度-流量-PF值/毫伏值全自動控制過程。
特點
l 精確的流量控制±2.5%F.S.
l 精確的PF值控制±5
l 可節約工藝氣體的消耗量
華敏智造為 1000+ 家企業提供解決方案服務